詳細(xì)說明
LPCVD system(低壓力化學(xué)氣相沉積系統(tǒng))。設(shè)備主要部件全部選用國(guó)際主流知名品牌，適用于IC芯片制造、可控硅芯片制造、二三極管芯片制造、整流橋芯片制造、太陽(yáng)能電池芯片制造等各種芯片造行業(yè)。涵蓋工藝包括：LTO（二氧化硅）、PSG（磷硅玻璃）、SIPOS（半絕緣多晶硅）、POLY（多晶硅）、SI3N4（氮化硅）、TEOS等。設(shè)備成熟穩(wěn)定安全可靠，可配套提供相應(yīng)工藝技術(shù)支持。
