濺射鍍膜工藝經(jīng)過近些年的發(fā)展，對于各種材料的鍍膜工藝已經(jīng)非常完善。我司提供全系列濺射鍍膜靶材（包括金屬靶材，合金及中間合金靶材，陶瓷靶材）給各大專院校，科研機構，工礦企業(yè)。

磁控濺射靶材成型方法：材料的成型方式根據(jù)產(chǎn)品性能和客戶的不同要求進行選擇。一般材料熔點比較低時，采用真空熔煉后澆鑄，再進行鍛軋等工藝消除氣孔，當然有效的熱處理細化晶粒均勻材質(zhì)是非常必要的。熔點高的材料（或脆性大的材料）采用熱壓，或熱等靜壓成型，也有些采用冷等靜壓成型然后燒結。本公司提供的各種濺射靶材，工藝適當，密度高，晶粒均勻，使用壽命長。。。

濺射鍍膜應用領域： 濺射鍍膜應用領域非常廣泛，主要用于包裝鍍膜，裝飾鍍膜，建筑玻璃鍍膜、汽車玻璃鍍膜、低輻射玻璃鍍膜，平面顯示器，光通訊/光學工業(yè)，光數(shù)據(jù)存儲工業(yè)，光數(shù)據(jù)存儲工業(yè)，磁數(shù)據(jù)存儲工業(yè)光學鍍膜，半導體領域，自動化，太陽能，醫(yī)療，自潤滑膜層，電容器鍍膜，其它功能性鍍膜等。

濺射靶材背板供應，邦定服務：本公司提供各種濺射靶材背板，包括無氧銅，鉬，鋁，不銹鋼等材料。同時提供靶材與背板的焊接服務。

背板供應：無氧銅、鋁、鈦、不銹鋼、鉬背板。 
金屬化處理：濺射靶材金屬化處理，為下一步邦定服務做好準備。
邦定服務：批量化生產(chǎn)。