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磁控濺射靶材

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基本參數(shù)
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詳細說明

濺射鍍膜工藝經(jīng)過近些年的發(fā)展,對于各種材料的鍍膜工藝已經(jīng)非常完善。我司提供全系列濺射鍍膜靶材(包括金屬靶材,合金及中間合金靶材,陶瓷靶材)給各大專院校,科研機構(gòu),工礦企業(yè)。

磁控濺射靶材成型方法:材料的成型方式根據(jù)產(chǎn)品性能和客戶的不同要求進行選擇。一般材料熔點比較低時,采用真空熔煉后澆鑄,再進行鍛軋等工藝消除氣孔,當然有效的熱處理細化晶粒均勻材質(zhì)是非常必要的。熔點高的材料(或脆性大的材料)采用熱壓,或熱等靜壓成型,也有些采用冷等靜壓成型然后燒結(jié)。本公司提供的各種濺射靶材,工藝適當,密度高,晶粒均勻,使用壽命長。。。

濺射鍍膜應(yīng)用領(lǐng)域: 濺射鍍膜應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛,主要用于包裝鍍膜,裝飾鍍膜,建筑玻璃鍍膜、汽車玻璃鍍膜、低輻射玻璃鍍膜,平面顯示器,光通訊/光學工業(yè),光數(shù)據(jù)存儲工業(yè),光數(shù)據(jù)存儲工業(yè),磁數(shù)據(jù)存儲工業(yè)光學鍍膜,半導體領(lǐng)域,自動化,太陽能,醫(yī)療,自潤滑膜層,電容器鍍膜,其它功能性鍍膜等。

濺射靶材背板供應(yīng),邦定服務(wù):本公司提供各種濺射靶材背板,包括無氧銅,鉬,鋁,不銹鋼等材料。同時提供靶材與背板的焊接服務(wù)。

背板供應(yīng):無氧銅、鋁、鈦、不銹鋼、鉬背板。
 
金屬化處理:濺射靶材金屬化處理,為下一步邦定服務(wù)做好準備。
邦定服務(wù):批量化生產(chǎn)。

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