在集成電路的制造過程中，被加工的是單一的硅片，從原材料到產(chǎn)品需要進(jìn)行幾百道物理、化學(xué)加工工序，其間如果遭受污染，就會(huì)引起產(chǎn)品大量報(bào)廢，例如64MDRAM，在制造過程中，空氣中塵埃粒徑應(yīng)被控制在0.035ym以下；環(huán)境微振動(dòng)值應(yīng)控制在4.5×10—3mm/s以下，在光刻工序，很小的微振動(dòng)會(huì)引起對位不準(zhǔn)，影響產(chǎn)品的成品率。

   為了滿足集成電路日益精細(xì)的加工要求，各國風(fēng)淋室在微污染控制技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)投入了可觀的人力、物力進(jìn)行系統(tǒng)研究，取得了大量科技成果，涌現(xiàn)了一批高科技產(chǎn)品，諸如超高效過濾器（過濾效率達(dá)99.999 99%）的問世及IS0 3級(O.lpm)風(fēng)淋室的建立。

   在防微振領(lǐng)域，從廠房結(jié)構(gòu)形式、動(dòng)力設(shè)備布置及隔振措施到精密設(shè)備防微振措施等方面獨(dú)特的建樹，為集成電路生產(chǎn)提供了一個(gè)優(yōu)良的環(huán)境。可以認(rèn)為風(fēng)淋傳遞窗，當(dāng)今微污染控制領(lǐng)域諸多科技成果的出現(xiàn)無不與集成電路生產(chǎn)的飛速發(fā)展有關(guān)。

   隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展、進(jìn)步，防微振技術(shù)必須不斷地探索、提高和深化，這將是歷史的必然。進(jìn)行大量的工程實(shí)踐，成功地解決了彩色膠片涂布、慣導(dǎo)系統(tǒng)測試、集成電路光刻工序、空間光學(xué)系統(tǒng)檢測、激光實(shí)驗(yàn)、超薄金屬軋制、文物保護(hù)等方面的防微振問題，為我國現(xiàn)代化科技的發(fā)展做出貢獻(xiàn)。

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