提高轉印率的新途徑

   從前面分析可以看到，由于靜電潛像電

場對調(diào)色劑的作用力存在，阻礙了轉印率的

進一步提高.如何降低0電潛像的電位，以求

得高轉印率是諸多影響轉印率的因素中關鍵

的因素。

   根據(jù)光導體的光電特性，在轉印時，采

用局部曝光的方法，使光導體的轉印部分變

到達光導體后.光導體就由絕緣體變?yōu)閷w.

掙電潛像的電荷得以泄放掉，降低了光導體

表面電位.從而提高了轉印率。

液干法顯影的轉印

   液干法顯形的轉印也是采用靜電轉印法，其轉印電最電極的結構形式和一般電朵電

權的相同.沮為了控創(chuàng)光導層表面顯形荊的全和保證顯影荊的功定，在轉印前必須對光

導層表面的顯影荊進行擠壓搶生.擠壓方法有兩種形式.即電經(jīng)擠壓和機械擠壓.

   電牽濟壓襲里電暈擠壓裝里的結構也和電是電極相同，但為了控側光導層表面顯

形荊4J及，可由電暈充電的弧度來控制.所以共高壓N的箱出應可調(diào)節(jié)，充電極性應與

月色荊段拉所帶電荷極性相同.

  ·按顯影劑組成區(qū)分，可以分為雙組分顯形荊江印饑和單組分顯影劑復印機.

   ·按顯影方式區(qū)分，可以分為磁劇顯形式、跳動顯影式、電泳足影式、瀑布顯影式

和MT 顯影式復印機.

   ·按定影方式區(qū)分.可以分為立熱式(熱板)、冷壓式和熱壓式(熱招)紅印機.

   .按清潔方式分，可以分為充電嗯光式、刮板式、班刷網(wǎng)收式、破輥回收式和綜合式復印機.

   一按光導體材料區(qū)分，可以分為Se(包括Se-'Pc合金)樸電復印機,ZnO撲電乞印

機、CdS樸IL艾印帆和OPC(右機光導體)靜電復印機