產(chǎn)品介紹東莞半導體超純水設備 東莞單晶硅超純水設備 東莞線路板超純水設備半導體超純水設備—單晶硅超純水設備—東莞威立雅信譽單位！ 水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm 用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm。 半導體超純水設備,單晶硅超純水設備,超純水設備 水質(zhì)標準： 　　半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。 超純水處理設備的應用領域： 　　 電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　　 電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水； 　　 生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液； 　　 晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；　　 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片； 　 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水； 　　 半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；半導體超純水設備,單晶硅超純水設備,超純水設備 半導體超純水設備制備工藝： 　　1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(最新工藝) 　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(最新工藝) 　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(最新工藝) 　半導體超純水設備,單晶硅超純水設備,超純水設備 產(chǎn)品推薦： 二極管超純水設備產(chǎn)品屬性EDI超純水設備用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm。使用及維護半導體EDI超純水設備現(xiàn)場安裝工作結束后，由本公司全面負責凈水系統(tǒng)的調(diào)試工作。用戶的工作人員進行協(xié)助操作，直到正常運行后，整套設備方交付用戶使用。a) 培訓工作現(xiàn)場培訓：本公司在現(xiàn)場進行凈水系統(tǒng)調(diào)試的同時，結合現(xiàn)場調(diào)試實際情況對操作工進行現(xiàn)場培訓，并提供相關的技術資料，解答用戶提出的各種問題，為用戶培訓操作、維修保護技術人員。b) 售后服務工作本公司有一支專業(yè)從事售后服務的隊伍，現(xiàn)場解決用戶在使用中所產(chǎn)生的問題和預防設備事故的發(fā)生，確保設備的正常運轉(zhuǎn)。純水系統(tǒng)投運后，在運行過程中遇到任何問題，均可向本公司咨詢。用戶在完全按照本廠提供的操作規(guī)程正常操作損壞的，將免費提供更換零件。保修期滿后，按用戶的需求，及時給予維修服務。長期、及時、優(yōu)惠向買方提供備品、備件。本公司采取定期用戶訪問制，為用戶提供各種有效服務，根據(jù)用戶的建議對產(chǎn)品進行改進和提高。其他說明EDI超純水水質(zhì)標準： 　　半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。交易說明超純水設備安裝后付款！