UV光解除臭設(shè)備核心中的納米光催化觸媒材料是一種吸收光能后，能在其表面產(chǎn)生催化反應(yīng)的物質(zhì)，其功能類似于植物的葉綠素。當(dāng)特定納米波長的紫外光照射光催化觸媒材料（GC-100）時，其表面發(fā)生光催化氧化還原反應(yīng)。光催化觸媒材料（GC-100）吸收光子后在其表面產(chǎn)生電子（E—）和空穴（H+），將吸收的光能轉(zhuǎn)化成化學(xué)能，即具有光催化作用。當(dāng)光催化觸媒材料（GC-100）與空氣中的水接觸時，表面就吸附H2O、O2、OH—，H2O、 OH—被空穴（H+）所氧化，O2被電子（E—）還原，反應(yīng)室如下：

H2O+ H+ → OH. + H+ O2+ E— → O2—.OH—基團的氧化能力較強，使有機物氧化，最終分解為水和CO2。

   UV光解除臭設(shè)備可用于污水泵站、污水處理站、污水處理廠、垃圾處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站、泵站、卷煙廠、香精香料廠、糞便處理、肉類加工廠、屠宰場等產(chǎn)生的各類惡臭、異味氣體的領(lǐng)域；也可用于醫(yī)院、餐飲、賓館等公共場所；產(chǎn)生的甲醛、苯、氨等有機、有毒氣體的實驗室等場所的除臭處理。

   在光催化氧化反應(yīng)中，通過UV光解除臭設(shè)備所產(chǎn)生的紫外光照射在納米TiO2催化劑上，產(chǎn)生的自由基可以有效把各種有機廢氣如醛類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物以及其它VOC類有機物及無機物在光催化氧化的作用下還原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它低臭味無害物質(zhì)，可用于污水處理廠、垃圾廠、制藥廠、煉油廠、化工廠、屠宰廠、養(yǎng)殖廠、飼料加工廠、造紙廠、印刷廠、印染廠、塑料再生廠、實驗室等惡臭氣體的脫臭凈化處理。

    經(jīng)過UV光解除臭設(shè)備凈化之后的廢氣分子被分解，起到了去除廢氣臭味的作用，由于在光催化氧化反應(yīng)過程中無任何添加其它易耗品，所以不會產(chǎn)生二次污染，運行成本方面只是用到電能，無需經(jīng)常更換耗材，對于企業(yè)來的使用上是相當(dāng)?shù)墓?jié)能環(huán)保，并且維護方便，是目前理想的除臭環(huán)保技術(shù)。

uv光解除臭設(shè)備技術(shù)原理簡述：

  在波長范圍 170nm-184.9nm（704 kj/mol - 647 kj/mol）高能紫外線的作用下，一方面空氣中的氧氣被裂解，然后組合產(chǎn)生臭氧；另一方面將惡臭氣體的化學(xué)鍵斷裂，使之形成游離態(tài)的原子或基團；同時產(chǎn)生的臭氧參與到反應(yīng)過程中，使惡臭氣體最終被裂解、氧化生成簡單的穩(wěn)定的化合物，如CO2、H2O、SO2、N2等。

  紫外光催化技術(shù)對于某些有機化合物的部分化學(xué)鍵鍵能高于所提供的UV光子能量，如甲醛的“C=O”鍵的鍵能為728kj/mol。目前我們所提供的UV光子的能量為 704kj/mol（正在研發(fā)742kj/mol和800kj/mol）。甲醛在170nm的UV紫外光的照射下，會裂解生成游離態(tài)的[C=O]*、 H*。一部分[C=O]*與03反應(yīng)生成CO2，一部分[C=O]*在經(jīng)過與N2等惰性物質(zhì)碰撞后失去能量，生成CO，臭氧量充足時可將部分CO氧化成CO2 。

  如果提供的UV紫外線波長為160nm（742kj/mol），則反應(yīng)過程相對就更加簡單一些：甲醛會被直接裂解成游離態(tài)的C*、H*，會被O3直接氧化成CO2和H2O。

  以上可見，不同波段的UV紫外線對于同一種物質(zhì)的光解反應(yīng)可以是不一樣的，UV紫外線的波長越短，即UV光子能量越高，物質(zhì)的光解反應(yīng)就越容易，反之越難，甚至沒有任何效果。